各位專家、學(xué)者：
《知識產(chǎn)權(quán)法律制度研究》是國家知識產(chǎn)權(quán)局主辦的學(xué)術(shù)性出版物，其前身為《專利法研究》，首冊發(fā)行于1991年9月，由國家知識產(chǎn)權(quán)局條法司負(fù)責(zé)編輯。本出版物以習(xí)近平新時代中國特色社會主義思想為指導(dǎo)，以實事求是、理論聯(lián)系實際為宗旨，重點圍繞《知識產(chǎn)權(quán)強國建設(shè)綱要（2021-2035年）》、加強知識產(chǎn)權(quán)法治保障相關(guān)內(nèi)容，主要刊登知識產(chǎn)權(quán)理論和實踐方面的學(xué)術(shù)性論文和有關(guān)譯文，向全國知識產(chǎn)權(quán)理論和實務(wù)工作者提供一個思想和觀點交流的平臺。
為充分實現(xiàn)本書宗旨和目標(biāo)，分享各位專家學(xué)者、同仁的研究成果和實踐心得，現(xiàn)誠摯邀請您為本書撰稿，為知識產(chǎn)權(quán)事業(yè)的發(fā)展集思廣益、建言獻(xiàn)策。
關(guān)于來稿的有關(guān)事項，說明如下：
1. 來稿應(yīng)具有科學(xué)性、創(chuàng)新性和前瞻性，具有較強的理論意義或?qū)嵺`意義，并具有一定的學(xué)術(shù)價值。篇幅一般12000字左右。
對于涉及以下主題的稿件，本書優(yōu)先采用：
（1）商標(biāo)法律制度專題研究
（2）地理標(biāo)志法律制度研究
（3）專利法律制度專題研究
（4）知識產(chǎn)權(quán)基礎(chǔ)性法律研究
（5）集成電路布圖設(shè)計法律制度研究
（6）國際知識產(chǎn)權(quán)制度的發(fā)展趨勢及我國的應(yīng)對策略
（7）我國知識產(chǎn)權(quán)制度助力新質(zhì)生產(chǎn)力發(fā)展
（8）知識產(chǎn)權(quán)法律制度域外適用研究
（9）知識產(chǎn)權(quán)地方立法研究
（10）新領(lǐng)域新業(yè)態(tài)知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)規(guī)則研究
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國家知識產(chǎn)權(quán)局條法司
2026年1月4日